
2台国产DUV光刻机的问世意味着什么? - 知乎
另外,浸润式DUV,和干式DUV,其中最大的区别,就是在晶圆前面,加了一层介质水。 干式DUV采用的是空气作为光线传播的介质,浸润式DUV采用的是水来做光线传播的介质,而光线在水中产生折 …
国产duv光刻机出来了,中芯国际是否能在一年内达到10-7nm左右的等 …
Jan 23, 2025 · 按照光源类型,光刻机可分为UV、DUV、EUV来源:硅基研究室制图 “同样的7nm芯片,用EUV跑,可能只需要40遍就能跑完,用DUV跑,可能需要90多遍,再算上产能的差距,相较于 …
14nm光刻机是怎么做出7nm和5nm芯片的? - 知乎
DUV是目前比较成熟的方案,现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源,被广泛应用在7nm(N7)以及7nm以前的工艺里。 伴随着工艺的继续微缩,DUV已经力不从心,所以现在无论是台积电还是三星 …
Why are we going from DUV straight to EUV lithography?
Maybe you want to ask a more specific question? What's the point of 50nm EUV if DUV can already achieve this as illustrated in my answer. There is an energy density charge transfer explosive …
工信部公开推广两款国产 DUV 光刻机,国产 DUV 光刻机在研发过程中 …
工信部公开推广两款国产 DUV 光刻机,国产 DUV 光刻机在研发过程中遇到了哪些主要的技术难题? 9月9日,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。
有自媒体报道中国的28nm光刻机成功交付使用,如何看待? - 知乎
也就是说28nm光刻机,如果是指分辨率的话,中国的光刻机要在物镜系统和掩膜技术远远超越ASML才可以,最有可能的是也就是在DUV领域,中国光刻机数值孔径比ASML大很多,high NA DUV了属于是。
DUV 和 EUV 光刻机的区别在哪儿? - 知乎
虽然名字上只有“极”和“深”的区别,但实际上这两种技术在原理和应用上都有显著的差异。 EUV,全称极端远紫外线,其波长为13.5纳米。 由于这种光线的波长远短于DUV,所以它能够实现更高的分辨 …
纯国产 28 纳米 DUV 光刻机什么时候可以规模化量产? - 知乎
纯国产 28 纳米 DUV 光刻机什么时候可以规模化量产? 上海微电子的 28nm DUV 光刻机 2023年底就传出完成初步开发,但到 2025 年似乎也还没看到上线大规模量产的信息
英特尔想从DUV直接跳到high NA EUV是不是一步臭棋? - 知乎
英特尔想从DUV直接跳到high NA EUV是不是一步臭棋? DUV哪怕是浸没,光学分辨率只有38纳米,而EUV的分辨率是13纳米,是DUV足足三倍。
你似乎来到了没有知识存在的荒原 - 知乎
知乎,中文互联网高质量的问答社区和创作者聚集的原创内容平台,于 2011 年 1 月正式上线,以「让人们更好的分享知识、经验和见解,找到自己的解答」为品牌使命。知乎凭借认真、专业、友善的社区 …